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FSLM-2K70-P02

调制类型:相位型
液晶类型:反射式
灰度等级:8位,256阶
分辨率:1920×1080
像元大小:8.0μm
有效区域:0.69" 15.36mm×8.64mm
开口率/填充因子:87%
相位范围:2π@633nm Max:2.5π@633nm
光学利用率:64% @532nm
响应时间:≤16.7ms
刷新频率:60Hz
光谱范围:400nm-700nm
损伤阈值:20W/cm2(无水冷)       100W/cm2(水冷)
数据接口:HDMI或DVI
电源输入:5V 3A
配向角:0°
gamma校正:支持
相位校正:支持
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应用案例

FSLM-2K70-P02.png

散射成像

基于FSLM-2K70-P02实现扫描散射介质后传统ME区域以外的具有相对均匀的强度值的焦点。

图片1.png图片2.png


ME区域内的散射介质后的WFT&RO的实验结果。(a-c)SLM相位板,用于初始焦点、扫描焦点和RO焦点。(d-f)初始焦点、扫描焦点和RO焦点的观测平面图像。


激光加工

基于FSLM-2K70-P02的相位调制辅助纳秒激光技术进行铬薄膜上的混合周期微结构制造。

图片3.png图片4.png

随着1000-nmCr薄膜的激光通量的增加,MG-LIPSS在4个不同的调制周期Γ下形成的MG-LIPSS的SEM形貌。



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